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『普通』主题: 安徽.大时代新思科技可靠Fusion技术助力三星7LPPEUV工艺降低功耗

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财友8mf39d39查看TA的论坛文集发表日期:2018-07-06 09:24:50

头衔:初级用户积分:720 关注加为好友 引用 评分 只看该作者




    采用Fusion技术的新思科技Design Platform为三星7LPP工艺极紫外(EUV)光刻技术带来功耗、性能和面积方面的优势。
    为基于单次曝光布线,以及连排打孔提供完备的全流程支持,在Design Compiler? Graphical RTL综合,IC Compiler? II 布局和布线以及PrimeTime?时序signoff中最大程度地实现设计的可布线性。
    工具认证包括与Lynx Design System兼容的可扩展7LPP参考流程,使用64位Arm? Cortex?-A53处理器进行结果质量优化和流程验证。
    全球第一大芯片自动化设计解决方案提供商及全球第一大芯片接口IP供应商、信息安全和软件质量的全球领导者新思科技(Synopsys, Inc.,纳斯达克股票市场代码: SNPS)近日宣布,新思科技Design PlatformFusion 技术已通过三星认证,可应用于其7纳米(nm)低功耗+(LPP-Low Power Plus)工艺的极紫外(EUV)光刻技术。新思科技Design Platform为基于EUV单次曝光布线和连排打孔提供完备的全流程7LPP支持,以确保最大程度地实现设计的可布线性和利用率,同时最大限度地降低电压降(IR-drop)。新思科技的SiliconSmart?库表征工具对于研发在该认证工艺上建立参考流程所使用的基础IP非常关键。三星已经认证了新思科技 Design Platform工具和参考流程,该流程与Lynx Design System兼容,配备用于自动化和设计最佳实践的脚本。该参考流程可通过三星Advanced Foundry Ecosystem (SAFE?) 计划获得。
    三星电子代工市场营销团队副总裁Ryan Sanghyun Lee表示:“通过与新思科技的深入合作,我们7LPP工艺上的认证和参考流程将为我们共同的客户在设计上实现最低功耗、最佳性能和最优面积。使用经过验证并集成了Fusion技术的新思科技 Design Platform,我们的代工客户可以放心地使用新思科技最先进的EUV工艺量产他们的设计。”
    新思科技设计事业部营销与商务开发副总裁Michael Jackson表示:“我们与三星的工具和参考流程合作重点在于使设计人员能够使用三星最新的EUV 7LPP工艺在最高可信度下获得最佳结果质量。采用集成了Fusion技术的新思科技Design Platform,可扩展7LPP参考流程将使设计人员能够轻松实现他们期望的设计和时间目标。”
    基于ARMv8架构的64位Arm Cortex-A53处理器被用于结果质量(QoR)优化和流程认证。新思科技Design Platform7LPP参考流程的关键工具和功能包括:
 
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